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la France se doit de conserver un tissu industriel afin de rester une terre d’innovation.
TECHNOLOGIE / PRODUCTION Optoélectronique
Un équipement de lithographie dédié aux DEL de puissance
Encore en bêta test, le Sapphire 100 d'Ultratech sera commercialisé au second semestre 2010.
Didier Girault, ElectroniqueS, le 11/2/2010 à 15h22
Ultratech, spécialiste américain des équipements de lithographie et des matériels laser destinés à la fabrication des semiconducteurs, également fournisseur de systèmes d’encapsulation, annonce un matériel de lithographie dédié à la production de DEL de puissance, le Sapphire 100. Encore en phase de bêta test, cet équipement sera commercialisé au second semestre de cette année.
Dans la pratique, le Sapphire 100 dérive des travaux menés par Ultratech pour adapter son système de lithographie Star 100 à la production de DEL de puissance, pour le compte de son client SemiLED. Le sapphire 100 intègre en particulier le système d’alignement breveté MVS (Machine Vision System) mis au point par Ultratech.
