Maskless propose la lithographie sans masque à vitesse élevée pour les circuits imprimés

Maskless Lithography, une société californienne créée en 2005 par des vétérans de l’industrie du semiconducteur, annonce un équipement de lithographie à écriture directe, destiné à la fabrication de circuits imprimés.
Baptisé MLI-2027, cet outil repose sur une nouvelle technologie dite GLI («Gray Level Imaging») qui a fait l’objet d’un brevet. Cette technologie permettrait à la machine de combiner à la fois rapidité et précision d’écriture sur le film sec, selon Maskless et le sous-traitant Sanmina-SCI. Ce dernier a en effet testé et retenu le MLI-2027 pour son site de San Jose (Californie).
Maskless aurait ainsi surmonté le problème majeur des outils d’écriture directe, à savoir la lenteur d’exécution.

Maskless a été créé en 2005 par une poignée de vétérans de la Silicon Valley. Dan Meisburger, son fondateur et directeur technique, est un spécialiste de la lithographie et de la métrologie, qui a travaillé pour Ultratech Stepper, IBM, Hewlett-Packard et KLA-Tencor; chez ce dernier, il a notamment mis au point en première mondiale, un équipement d’inspection de tranches de silicium à partir de faisceaux d’électrons.
William Elder, actuel p-dg de Maskless, a, pour sa part, créé Genus, une société spécialisée dans la fabrication d’outils de production de semiconducteurs. Cotée en bourse en 1988, elle a été rachetée par l’allemand Aixtron en 2005.
Quant au directeur général de Maskless, Edward Carignan, il a notamment travaillé pour Sanmina-SCI où il a été à la tête des fabrications de circuits imprimés basées en Malaisie, à Singapour et en Chine.