Des résines de course pour la lithographie EUV

Le 01/03/2016 à 12:00 par Didier Girault
Les recherches vont bon train pour la mise au point de résines EUV à forte sensibilité qui puissent opérer de concert avec les sources actuelles, de puissance moyenne. Les films protecteurs des masques EUV font aussi l’objet d’études pointues. C’est, entre autres, ce qui ressort des dernières conférences SPIE. C ette année, les conférences SPIE…
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