UV extrêmes : Toshiba et Sandisk collaborent avec l’Imec

Le 23/06/2015 à 5:59 par Frédéric Rémond

Objectif : mettre au point la succession des technologies de lithographie actuelles.

Toshiba et SanDisk viennent d’étendre leur partenariat technologique avec l’Imec relatif à l’industrialisation de la lithographie à ultraviolets extrêmes (EUV). L’objectif est de mettre au point une technologie capable de succéder à la lithographie classique pour la fabrication de circuits numériques de pointe, ici des mémoires.

Toshiba et Sandisk sont déjà associés aux recherches du centre de R&D belge depuis 2011. Sur ce thème, l’Imec travaille également avec Intel, Panasonic, Samsung, Hynix, Sony ou encore TSMC.

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