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Terme Définition
Masque à décalage de phase

Dans la fabrication des semiconducteurs, les motifs du circuit intégré sont transférés sur la puce par lithographie optique à partir d’un masque en verre sur lequel les motifs sont inscrits en chrome. Avec un masque à changement de phase, le transfert s’effectue en deux fois en modifiant la phase de la lumière de 180 °C au deuxième passage : cette technique permet d’atteindre une résolution de la moitié de la taille de la longueur d’onde émise.

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