Le centre belge de R&D a collaboré avec Cadence et combiné des technologies de lithographie EUV et de photolithographie 193 nm.

L’Imec, le centre belge de R&D en microelectronique, et Cadence viennent de réaliser la première fabrication d’un circuit intégré de test en géométrie 5nm en combinant la lithographie à ultraviolets extrêmes (EUV) et la photolithographie 193nm à immersion (avec pas métalliques de 24nm en quadruple patterning).

Ce circuit, un processeur, a profité de la plateforme d’implémentation physique Innovus de Cadence.