La construction de ce site, baptisé “Fab 42”, devrait débuter à la mi 2011 en Arizona. A l’occasion d’une visite du président américain Barack Obama dans l’une des usines d’Intel, en Arizona, Paul Otellini, directeur général de numéro un mondial du semi-conducteur, a annoncé que sa société allait investir 5 milliards de dollars dans un nouveau site de production sur tranches de 300 mm de diamètre.

La construction de ce site, baptisé “Fab 42”, devrait débuter à la mi 2011 en Arizona et pourrait s’achever en 2013. Il s’agit de se lancer dans la production de circuits en technologie 14 nm, a précisé Intel.