Spécialiste des outils logiciels de préparation de données des masques, la société grenobloise Xyalis vient de signer un accord de partenariat technologique avec SII NanoTechnology, leader dans le domaine la vérification des photomasques. L’objectif de ce partenariat est de promouvoir un flot complet de préparation des données des masques utilisés en photolithographie, via l’outil GTmask de Xyalis, qui est une solution de layout d’un masque, et SmartMRC de SII NanoTechnology, qui est un checker spécifique pour les données d’un photomasque.

Via cet accord, les deux produits seront étroitement intégrés pour former un flot automatisé de préparation et de vérification des données d’un masque. Et Xyalis va commercialiser et supporter la solution de SII NanoTechnology en Europe par le biais de son bureau situé à Grenoble, et aux États-Unis via son bureau de San Jose.