Le fondeur américain de silicium plébiscite les outils d’optimisation de la lithographie et de correction des défauts de proximité mis au point par la filiale d’ASML.

Brion Technologies, filiale d’ASML spécialisée dans les logiciels de correction (notamment optique) et l’optimisation des procédés de lithographie, coopère avec Globalfoundries à la réalisation de photomasques pour les nœuds technologiques 28 et 20 nm.
“Les essais menés prouvent que les corrections optiques de proximité (OPC) et les solutions informatiques d’optimisation de la lithographie proposées par Brion sont celles qui garantissent les meilleurs rendements en production“, annonce Chris Spence (Globalfoundries).

Rappelons que plus les circuits intégrés gagnent en miniaturisation, plus de nouveaux phénomènes parasites apparaissent au plan de la lithographie, phénomènes qui sont liés à l’utilisation d’objets de dimensions de l’ordre de grandeur de la longueur d’onde de la lumière utilisée.
Pour corriger ces défauts, les fabricants d’équipements, comme ASML et sa filiale Brion, proposent des solutions logicielles et matérielles.

Dans la pratique, l’outil Tachyon Flexible Mask Optimization (Tachyon FMO) de Brion permet de procéder à plusieurs types de correction optiques de proximité et d’appliquer chacune de celles-ci aux endroits où elle est la plus indiquée.
Les outils Tachyon fonctionnent sur les calculateurs à architecture distribuée via la mise en place d’une plateforme dite Tachyon Flex.