Le CEA-Leti et Entegris étudient la contamination des tranches de silicium par leurs conteneurs

Le 12/07/2011 à 15:36 par Didier Girault

Le laboratoire et le fournisseur américain de matériaux ont signé un accord pour des recherches communes sur la contamination réciproque entre wafers et conteneurs.

Le CEA-Leti et Entegris, fournisseur américain de produits et matériaux pour la production de semi-conducteurs à partir de technologies avancées (conteneurs de wafers, systèmes de filtrage et purification, revêtements…), viennent de signer un accord d’une durée de deux ans pour l’étude conjointe de la contamination entre les tranches de silicium et autres matériaux, d’une part, et les conteneurs de ces derniers, d’autre part.
En effet, l’utilisation de nouveaux matériaux (arséniure de gallium, nitrure de gallium…) génère de nouveaux problèmes de contamination. En outre, les méthodes de production qui seront utilisées pour les nouvelles technologies (nœud de 32 nm et en deçà) gagneront à faire appel à de nouveaux types de conteneurs ainsi qu’à de nouvelles méthodes de nettoyage.
Pour cela, la contamination résultant de particules en suspension dans l’air, d’interactions avec l’environnement (salle blanche, équipement de production, conteneur …) doit être étudiée. Il faut notamment comprendre les mécanismes physiques et chimiques à l’œuvre dans ce phénomène.

Pour mener ces études, le Leti s’appuiera sur 8000 m2 de salles blanches équipées de lignes pilotes pour les wafers de 200 et 300 mm de diamètre, lignes utilisables pour le nœud 32 nm et en deçà.
En outre, certaines analyses seront menées par la plate-forme de caractérisation nanométrique du Leti.
Entegris, quant à lui, fournira des matériaux polymères, différents microenvironnements de protection, et apportera son expertise en science des matériaux.

Copy link
Powered by Social Snap