Suss MicroTec apporte ses aligneurs de masques et GenISys, un logiciel de simulation. Ce dernier permet de sélectionner la meilleure séquence ”placement de masque + insolation”.

Suss MicroTec, fabricant allemand d’équipements de production destinés à la fabrication de semi-conducteurs, et GenISys, éditeur allemand de logiciels dédiés aux fabrications à l’échelle nanométrique, viennent de signer un accord dans le domaine de l’alignement des masques de lithographie.

Dans la pratique, l’outil Layout AB de GenISys permet la simulation de toutes les séquences d’exposition (placement du masque et insolation) possibles avec les aligneurs de masques de Suss MicroTec (photo), ce qui permet d’extraire les meilleures d’entre elles.