La technologie de gravure plasma utilisée supprime le recours au CF4, cause de réchauffement de la planète.

Plasma Etch, fabricant américain d’équipements de gravure à plasma, annonce de nouveaux matériels utilisant une technologie de gravure plasma de circuits imprimés qui se passe de tétra-fluorure de carbone (CF4), ce dernier étant l’une des causes de l’effet de serre.
“La gamme de systèmes Magna constitue une avancée majeure dans le domaine de la préservation de la couche d’ozone et de la protection de l’environnement“, déclare Plasma Etch dans son communiqué. Le procédé utilisé fait l’objet d’un dépôt de brevet.

L’invention de Plasma Etch permet aussi une moindre consommation que la gravure plasma usuelle,selon le fabricant.
Parmi les avantages des équipements Magna, figureraient également une plus grande vitesse et une meilleure uniformité de gravure qu’avec les machines plasma traditionnelles.