Ce projet de lithographie sans masque fera le point sur ses avancées et débattra de son utilisation pour le nœud 22 nm.

Le 6 septembre prochain, à l’hôtel Keio Plaza à Tokyo, se tiendra le deuxième atelier sur le projet Imagine de lithographie sans masque.
Au programme de cet atelier : un point sur les avancées techniques d’Imagine ainsi que sur la roadmap technologique; des informations et des discussions sur l’application de cette technique au nœud 22 nm et en deçà.

Le CEA-Leti et la société néerlandaise Mapper ont lancé ce programme en juillet 2009. A cette occasion, Mapper avait livré au Leti une plate-forme de lithographie directe par faisceaux d’électrons. Ce qui permet depuis aux fabricants de circuits intégrés de tester cette technologie dans un environnement de fabrication.

Pour toute information complémentaire, contacter Thomas Iljic,
tél.: (+81) 03 57 98 63 89,
email: thomas.iljic@snaft.jp.