
Rappelons que la technologie des TSV, qui permet de relier des puces de silicium dans la 3éme dimension de l’espace grâce à des micro trous verticaux métallisés (souvent avec du cuivre), autorise la production de circuits 3D avec des longueurs de fils d’interconnexion réduites. Avec comme conséquence, une moindre consommation pour une densité équivalente à un circuit 2D.
Samsung prévoit de produire en volume des circuits 3D utilisant la technologie des TSV d’ici la fin 2011, et pense déployer cette approche en 2012 sur des circuits fabriqués dans des procédés en 3x nm.