Le japonais offre un service de fabrication de circuits Cmos sur tranches de 200 mm. Toshiba offre désormais à ses clients européens un service de développement de process Cmos et de fonderie sur tranches de 200 mm. Exploitant l’usine japonaise d’Iwate, ce service comprend le support de procédés spéciaux, de modifications de procédés, de développement de procédés sur mesure et de substrats spéciaux avec une production de volume moyen à élevé.
Les nœuds technologiques actuellement disponibles couvrent les procédés à 0,6 µm, 0,35 µm, 0,18 µm, 0,13 µm, 110 nm et 90 nm.

Sont disponibles des blocs d’IP numériques, des mémoires (Sram, Rom, Eeprom, flash) et des transistors Cmos et Dmos haute tension, ainsi que des étapes de production non standard comme les connexions traversantes (through silicon vias), les films optiques ou encore les micro-miroirs. Le service de fonderie de Toshiba couvre également le test sur tranches.