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TSMC rejoint le CEA-Leti pour la lithographie sans masque

Le 07/07/2009 à 12:29 par Françoise Grosvalet

Le fondeur taïwanais TSMC vient de rejoindre le programme de R&D industriel Imagine récemment lancé par le CEA-Leti. Ce programme de trois a…

Le fondeur taïwanais TSMC vient de rejoindre le programme de R&D industriel Imagine récemment lancé par le CEA-Leti. Ce programme de trois ans vise à développer une infrastructure de lithographie sans masque

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