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Le fondeur taïwanais TSMC vient de rejoindre le programme de R&D industriel Imagine récemment lancé par le CEA-Leti. Ce programme de trois ans vise à développer une infrastructure de lithographie sans masque
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L'AMÉRICAIN EST LE PREMIER À FAIRE LA DEMONSTRATION DE CIRCUITS INTÉGRÉS GRAVES EN PROCESS 2 nm, GRÂCE À UNE TECHNOLOGIE…
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