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Le CEA-Léti et Nikon s’allient pour la lithographie 32 nm

Le 28/02/2007 à 14:22 par Elisabeth Feder

Le CEA-Léti et Nikon viennent de lancer un programme de développement commun dédié à la lithographie des process pour la fabrication de semi…

Le CEA-Leti et Nikon viennent de lancer un programme de développement commun dédié à la lithographie des process pour la fabrication de semiconducteurs en deçà de 45 nm. Les travaux porteront surtout

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