Lithographie en immersion : Sematech coopère avec Synopsys dans la correction optique pour les process 32 nm

Le 06/10/2005 à 15:04 par Elisabeth Feder

Le consortium Sematech vient d’annoncer un programme de R&D commun avec Synopsys pour développer des modèles de correction de proximité opti …

Le consortium Sematech vient d’annoncer un programme de R&D commun avec Synopsys pour développer des modèles de correction de proximité optique (ou correction d’image) qui devraient contribuer à étendre l’utilisation de la lithographie optique

Cet article n'est pas accessible publiquement.
Connectez-vous pour accéder à ce contenu.

Copy link
Powered by Social Snap