lithographie aux uV extrêmes:une version industrielle pour 2015

Le 01/07/2014 à 13:00 par Didier Girault

Elle s’est fait désirer: on la prévoyait initialement pour le 20nm puis pour le 14nm. En fait, elle n’entrera dans la course que pour la technologie 10nm. Le retard vient des difficultés rencontrées dans la mise au point des sources d’illumination.

P our gagner en rapidité et en densité, les circuits intégrés font appel à

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