Prévue initialement pour le 45nm, la lithographie aux UV extrêmes pourrait commencer à être utilisée au nœud 7nm, dès 2018. Des améliorations sont toutefois encore à apporter à cette technologie, notamment la mise à disposition de sources EUV puissantes permettant une cadence de production de 150 wafers par heure.
L a lithographie aux UV extrêmes
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