Les méthodes d’inspection se mettent en place pour les structures de 45 et 32 nm

Le 06/12/2006 à 14:00 par Elisabeth Feder

A l’occasion de la manifestation Semicon Japon, KLA-Tencor et Applied Materials vont tous deux dévoiler de nouveaux systèmes de mesure et d’…

A l’occasion de la manifestation Semicon Japon, KLA-Tencor et Applied Materials vont tous deux dévoiler de nouveaux systèmes de mesure et d’inspection de défauts en cas d’utilisation de procédés lithographiques en immersion pour

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