Les motifs de 32 nm seront faisables avec la lithographie 193 nm

Le 24/02/2006 à 14:38 par Elisabeth Feder

Les conférences SPIE Microlithography qui se tiennent cette semaine à San Jose, en Californie, auront permis de tracer la voie de la lithogr…

Les conférences SPIE Microlithography qui se tiennent cette semaine à San Jose, en Californie, auront permis de tracer la voie de la lithographie optique jusqu’à des motifs de 32 nm, en utilisant

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