Les experts qui se sont exprimés lors de la dernière Conférence SPIE sur la lithographie avancée envisagent l’adoption de cette technologie pour le 7nm.

L a lithographie aux UV extrêmes devrait bientôt être utilisée dans la fabrication industrielle des semi-conducteurs, soit au nœud technologique 7nm soit au nœud 5nm. C’est ce qu’ont indiqué des experts

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