Le fournisseur d’équipements de lithographie Nikon prévoit de démarrer cette année un large programme de développement sur la lithographie EUV (extreme ultraviolet,longueur d’onde de 13,5 nm) pour les futures technologies 45 nm et moins (32 nm). Le Japonais, qui avait déjà ouvert l’année dernière un département de développement spécifique au sein de son unité Precision Equipment,

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