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Lithographie : Toshiba va utiliser la technologie Scattering Bar d’ASML

Le 20/09/2005 à 14:51 par Elisabeth Feder

Toshiba vient de signer un accord d’utilisation de la technologie Scattering Bar du fabricant d’équipements de lithographie ASML dans la fab…

Toshiba vient de signer un accord d’utilisation de la technologie Scattering Bar du fabricant d’équipements de lithographie ASML dans la fabrication de ses semiconducteurs. Cette technologie permet d’augmenter les rendements dans la production de

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