Toppan Printing et IBM viennent d’annoncer une extension de leur accord de coopération portant sur le développement des masques photolithogr…
Toppan Printing et IBM viennent d’annoncer une extension de leur accord de coopération portant sur le développement des masques photolithographiques jusqu’au process 32 nm. Les deux firmes ont initialement démarré des travaux communs sur les
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L'AMÉRICAIN EST LE PREMIER À FAIRE LA DEMONSTRATION DE CIRCUITS INTÉGRÉS GRAVES EN PROCESS 2 nm, GRÂCE À UNE TECHNOLOGIE…
ANNONCÉ COMME PLUS ÉCONOMIQUE QUE LES TECHNOLOGIES SIGFOX ET LORA, CE FORMAT DE RÉSEAUX LOCAUX MESH À FAIBLE CONSOMMATION CONVIENT…
UN CONNECTEUR SUR MESURE CONSTITUÉ DE BLOCS ÉLEMENTAIRES (PUISSANCE, SIGNAUX OU DONNÉES) ASSEMBLÉS SUR UN RAIL : C'EST CE QUE…
