Venant en complément des outils classiques de calcul d’OPC, la suite Halo d’Aprio permet de travailler sur des portions de circuits sans avoir à recalculer l’ensemble des corrections OPC du layout.

Pour les conceptions nanométriques, la préparation des données nécessaires à la génération du jeu de masques d’un circuit impose l’utilisation de divers outils de

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