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Shin-Etsu va fournir des substrats de hautes performances pour l’optoélectronique

Le 04/10/2005 à 14:58 par Elisabeth Feder

Le Japonais Shin-Etsu vient de signer une licence d’utilisation des technologies NanoTec de SIlicon Genesis (SiGen) dans le but de développe…

Le Japonais Shin-Etsu vient de signer une licence d’utilisation des technologies NanoTec de SIlicon Genesis (SiGen) dans le but de développer, de produire et de commercialiser des substrats à transfert de couche pour les

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