X-FAB prépare des technologies Cmos 0,35 et 0,18 µm pour les applications RF

Le 10/10/2006 à 14:02 par Elisabeth Feder

La fonderie d’ex-Allemagne de l’Est X-Fab vient de démarrer un programme qui a pour objectif de développer des process Cmos, en deux étapes,…

La fonderie d’ex-Allemagne de l’Est X-Fab vient de démarrer un programme qui a pour objectif de développer des process Cmos, en deux étapes, avec des motifs de 0,35µm dans un premier temps

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